UV-Harz für den 3D-Druck heilen

UV-Harz für den 3D-Druck von Flüssigkeiten und mehrere Licht heilenAnwendungen für Advanced Light Control

Erfahren Sie mehr über Advanced Light-Control-Anwendungen in den folgenden Bereichen:

3D Machine Vision

DLP-Systeme können die berührungslose erzeugen, hochgenaue 3D-Daten in Echtzeit Muster programmierbar strukturierte Licht. Durch Projizieren einer Reihe von Mustern auf einen Gegenstand und der Erfassung der Licht Verzerrung mit einer Kamera oder einem Sensor kann man eine 3D-Punktwolke zu erzeugen. Die Punktwolke kann direkt für die Analyse der Oberfläche, Volumen oder Strukturgrößen des Objekts verwendet werden. Es kann auch auf eine Vielzahl von CAD-Modellierung Formate exportiert werden.

Warum DLP-Technologie für 3D Machine Vision

3d Drucken


Warum DLP-Technologie für 3D-Druck

2D-Lichtmuster Generation

Exposes gesamte Druckschicht auf einem einzigen Schuss für die schnelle Bauzeiten unabhängig von Schicht Komplexität

Hochauflösende Mikrospiegelarray

Ermöglicht Unter 50 um Auflösung auf der Bildebene.

Erweiterte Wellenlänge Unterstützung (bis 363 nm)

Kompatibel mit einer breiten Palette von Polymeren, Harzen und anderen Baumaterialien.

Zuverlässige MEMS-Technologie

DLP-Chipsets sind mit unterschiedlichen DMD Größen Pixelabständen, Auflösungen und andere Spezifikationen. DLP-Produkte bieten auch Geräte für die Verwendung mit UV-Bestrahlung ausgerichtet. Die beste Wahl für einen DLP-Chipsatz abhängen kann auf der Objektmerkmalsgröße gewünscht, Strukturierungsgeschwindigkeit und den erforderlichen Wellenlängen um das Harz auszuhärten.

Digital Micromirror Device (DMD)

Max Musterrate

Max Pixel Data Rate

DLP6500FYE: 420-700 nm,
DLP6500FLQ: 400-700 nm

DLP7000: 420-700 nm,
DLP7000UV: 363-420 nm

DLP9500: 400-700 nm,
DLP9500UV: 363-420 nm

3D-Druck-Referenzdesigns

Besondere TI Entwurf

3D Printing Ausbildung und Videos

3D-Druck technischer Dokumente

Digitale Lithography

Digitale Lithographie ist für die Leiterplattenherstellung, Flat Panel Display Reparatur, Laserbeschriftung und andere Belichtungssysteme. In der digitalen Lithographie stellt DLP-Technologie mit hoher Geschwindigkeit und hoher Auflösung Lichtmuster zu Belichtung Photoresist-Filmen und anderen lichtempfindlichen Materialien ohne Kontaktmasken verwenden. Dies reduziert die Materialkosten, verbessert die Produktionsraten und ermöglicht eine schnelle Musteränderungen, vor allem ideal für Anwendungsfälle, wo feine Strukturgrößen Double-Patterning erfordern.

Warum DLP-Technologie für digitale Lithography

High-Speed-Digital-Mustererzeugung (bis zu 32 kHz)

Verbesserung der Herstellungsdurchsatz und die Beseitigung physischer Masken oder Druckplatten

Mehrere Mikrospiegel-Größen (7,10,13 & mgr; m)

Erreichen Mikron-Level-Funktion Größen

Erweiterte Wellenlänge Unterstützung (bis 363 nm)

Spektroskopie

Alle Moleküle haben einzigartige Reaktionen auf verschiedene Wellenlängen des Lichts. Spektroskopie ist eine Analysetechnik, die diese einzigartigen Reaktionen verwendet Materialien zu identifizieren und zu charakterisieren. In einem Spektrometer-Design kann der TI DLP Digital Micromirror Device (DMD) als programmierbarer Wellenlängenselektor verwendet werden. Breitband Licht geht durch einen optischen Schlitz. Dann werden die einzelnen Lichtwellenlängen werden auf das Mikrospiegelarray dispergiert, um ein Beugungsgitter oder ein Prisma verwendet, Untergruppen der Mikrospiegel-Arrays ermöglicht auf bestimmte Wellenlängen abgebildet werden. Bestimmte Wellenlängen des Lichts kann dann zu einem Einzelelement-Detektor geschaltet werden. Diese leistungsstarke Design-Architektur eliminiert die Notwendigkeit für lineare Array-Detektoren oder Motoren, die eine spektrale Abtastung über einen Wellenlängenbereich zu erzeugen, der chemischen Analyse mit höherer Leistung und kleinere Formfaktoren zu geringeren Kosten ermöglicht.

Warum DLP-Technologie für die Spektroskopie

Hohe Auflösung, programmierbare optische MEMS-Array

mehr Licht einzufangen als mit linearen Anordnung ein großes Einzelelementdetektor verwenden erkennt ohne Wellenlängenauflösung zu opfern

Erweiterte Wellenlänge Unterstützung (bis zu 2500 nm)

Ermöglicht einem einzelnen Spektralmodul anpassbar für eine Vielzahl von Feststoffen und Flüssigkeiten und mehrere Lichtquellen

High-Speed-Schalt

Generieren Sie schnell spektralen Scans für Echtzeit-Materialanalyse mit einstellbaren Scanparameter

Zuverlässige MEMS-Technologie

Stabil über Temperatur und Lebensdauer und ermöglicht kompakte, robuste Designs

DLP-Lösungen bieten hohe Leistung und System Programmierbarkeit verschiedener Spektroskopie Designs zu optimieren. Die beste Wahl für einen DLP-Chipsatz wird von den Anforderungen des Spektroskopiesystem ab, für Wellenlängenbereich, der gewünschten Wellenlängenauflösung und Spektrumsmeßmodul Erfassungsgeschwindigkeit. TI bietet eine freie Software und Firmware-Downloads ermöglicht es Entwicklern einfach erstellen, speichern und anzeigen High-Speed-Mustersequenzen über USB-basierte Application Programming Interface (API) und einfach zu bedienende grafische Benutzeroberfläche (GUI).

Kleiner Formfaktor

Digital Micromirror Device (DMD)

Max Musterrate

Evaluierungsmodul (EVM)

  • 900 – 1700 nm Wellenlängenbereich
  • 10 nm spektrale Auflösung
  • Bis zu 6000: 1 Signal-Rausch-Verhältnis mit einbezogen reflektierenden Kopf
  • Bluetooth® und Bluetooth Low Energy für die drahtlose Konnektivität mit Batterieladeoption
  • 1350 – 2450 nm Wellenlängenbereich
  • 12 nm spektrale Auflösung
  • Mehr als 30.000: 1-Signal-Rausch-Verhältnis mit einbezogen lässigen Kopf

Spektroskopie Referenzdesigns

Quelle: www.ti.com

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